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芯片制造重中之重，但我国发展略显缓慢

虽然华为会设计芯片，但归根结底，华为遭遇难题最大的根源在于芯片制造。目前行业当中，芯片制造主要靠两家企业，一个是台积电，另一个是三星。我国在这方面虽然也有一定技术，但和台积电之间的实力相差不少。最重要的是，目前台积电、三星都在5nm、4nm等技术上有所发展，而我国还停留在14nm，7nm制造都成了一个难题。

造成这种情况最主要的原因就是因为我国无法进口EUV光刻机。因为传统的DUV光刻机无法制造7nm及以上的芯片产品，想要打造先进工艺，只能选择EUV光刻机。但因为各种因素的限制，却导致迟迟买不到相关设备，这就直接导致我国芯片制造进度缓慢。

意料之外，EUV光刻机又被针对

而近日，关于光刻机的新规又一次出炉，这次新规的出现让让不少人都有些措手不及，甚至台积电、三星等企业都没有料到。根据新规表示，未来ASML所生产的EUV光刻机设备，不仅出货需要通过许可，甚至还不能进入外企在中国的分厂。这也就是说国外芯片企业在国内的分厂，也无法买到先进的EUV光刻机设备。

要知道，台积电、三星、SK等全球性质的芯片企业巨头在国内都有大量的分厂，甚至SK的大部分产能都是在国内完成的，而这一规则的出现无疑直接影响到了这些企业的制造进度和发展状态。所以说不管是台积电还是三星，面对这次新规都未能幸免。

这一规则的出现不管是对企业发展还是对我国的企业发展情况都是一个坏处。首先对于企业而言，无法将先进设备购入到国内分厂，就意味着这些分厂在订单制造方面只能选择落后的成熟技术。而这也会导致部分企业会选择性地离开国内建厂，这就会导致建厂成本提升，风险加大。

其次，一旦企业离开国内市场到其他地方发展，这就直接减缓了当地的发展速度，对于当地经济来说也是一种损失。

自研光刻机迫在眉睫

不难看出，这次新规针对的其实还是EUV光刻机以及我国的芯片发展速度。但越是在这种情况下，光刻机的研发就越是迫在眉睫。虽然我们可能做不到全部零件都实现自主研发生产，但只要实现关键零部件去美化，纯国产光刻机的制造和生产或许并不是天方夜谭。要知道，目前上海微电子已经在28nm光刻机的生产上有所成绩，一些关键性技术方面也有突破，只要保证这种状态，光刻机难题迟早会实现突破。